推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考 摘要:. 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角, X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术
了解更多2015年4月16日 由于后者直接关联着研磨表面的形貌特 征、纹理分布, 因而研究较多, 其实前者对于揭示 平面研抛的机理将发挥重要作用, 应当受到重视, 也是本文要讨论的重点之一.2017年9月7日 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了 X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验
了解更多2018年5月12日 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明:偏摆幅度和偏 2018年6月1日 摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱 研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗
了解更多行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假 2021年8月19日 摘要:基于定偏心平面研磨方式,提出了无理转速比下的偏摆式平面研磨方式。 采用矢量方法建立了偏摆式平面研磨加工的 运动学方程,对比分析了定偏心和偏摆 232-241 2019-1456 肖燏婷 - cmes
了解更多2018年7月7日 载鄄再平面联动的平面研磨加工原理. 载鄄再平面联动研磨袁是在保持研磨盘回转运动的基础上工件被夹具固定于磁性工作台上同工作曰袁台一起做回转运动渊通过 平面研磨的运动模型. 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数 平面研磨的运动模型 - 百度学术
了解更多2015年1月13日 第38卷第6期机械工程学报v。1.38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了 ...2015年4月16日 文章编号:100028608(2002)0420451205行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析吴宏基,曹利新,刘健,郭丽莎(大连理工大学机械工程学院,辽宁大连116024)摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理.从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化 ...行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 豆丁网
了解更多2012年6月23日 第 卷第 期 年 月大 连 理 工 大 学 学 报Journal of Dalian University of TechnologyVol No J ul 文章编号 收稿日期 修回日期 作者简介 吴宏基 男副教授 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析吴 宏 基 曹 利 新 刘 健 郭 丽 莎大连理工大学 机械工程学院辽宁 大连 摘要 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的 ...手工研磨的运动轨迹,一般采用直线、摆线、螺旋线和仿“8”字形等几种。不论哪一种轨迹的研磨运动,其共同特点是工件的被加工面与研具工作面做相密合的平行运动。这样的研磨运动既能获得比较理想的研磨效果,又能保持研具的均匀磨损,提高研具的耐用研磨加工的运动特点及其运动轨迹 - 百度文库
了解更多2018年5月12日 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。结果表明:偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著,而偏摆角速度(取到非特殊值时)对轨迹非均匀性影响很小。平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化-Speed)、外齿圈转速Speed)、上/下研磨盘转速翻P(Upper/PlateSpeed)。 修盘器运动速度包括:围绕中心齿轮的公转、修盘器相对自身中心的自转。修盘器 结构如图,它利用修盘器上分布的金刚石磨片,通过 修盘 ...平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 - 百度文库
了解更多基于DH法推导平面研磨方法轨迹方程,仿真分析了研磨工艺参数与加工轨迹的关系及轨迹均匀性试验,验证该单平面 ... 研磨加工原理16 22研磨轨迹曲线18 23工件与研磨盘间的相对运动模型19 24基于单颗磨料运动的研磨轨迹仿真分析 22 241初始点向径 ...那么想要达到理想的工艺精度要求,就应该应用正确的操作方法及正确的工艺方法。 平面研磨轨迹的研究 王琦 【摘 要】以10mm以下量块工艺为例,介绍了实现平面研磨工艺要求的几种方法及研磨轨迹的特性及优缺点. 【期刊名称】《机械工程师》 【年(卷),期平面研磨轨迹的研究 - 百度文库
了解更多2020年4月29日 研磨体运动的实际状态是很复杂的,为了使问题分析简单化,作如下基本假设: 1、当磨机在正常工作时,研磨体在筒体内按所在位置的运动轨迹只有两种:一种是一层层地以筒体横断面几何中心为圆心,按同心圆弧轨迹随着筒体回转作向上运动;另一种是一层层地按抛物线轨迹降落下来;2019年3月17日 机电机械68018年11月0双面研磨运动轨迹模拟与分析郭晓峰范飞戚振华王献伟洛阳金诺机械工程有限公司,河南洛阳471003摘要:本文建立行星式双面研磨机行星轮运动轨迹的数学模型,利用VB软件对研磨轨迹进行了研究,分析不同研磨盘转速、不同速比下的相对运动轨迹状态及对研磨质量的影响。通过 ...双面研磨运动轨迹模拟与分析 - 道客巴巴
了解更多2014年3月22日 006年6月总第153期 第3期金刚石与磨料磨具工程DiamondAbrasivesEngineeringJune.006Serial.153 No.3文章编号:1006-85X00603-0046-04定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究3赵文宏 周兆忠 文东辉 袁巨龙 郑家锦浙江工业大学精密工程研究中心杭州310014摘 要 对修正环形抛光机定偏心和不定偏心平面研磨进 2013年7月11日 被引:44基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析机械工程学报被引:30行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析《大连理工大学学报》被引:1变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验机械科学与技术查看更多相关平面研磨的运动轨迹及原理-厂家/价格-采石场设备网
了解更多2020年4月12日 直线研磨运动轨迹可获得较高的精度,适用于有台阶的狭长平面的研磨。直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动),主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。螺旋形研磨运动轨迹,能获得较低的表面粗糙度和较高的平面度,主要适用于2019年5月15日 为了进一步了解磨机操作时研磨体对物料作用的实质,以便确定磨机的工作参数,如适宜的工作转速、功率消耗、生产能力、研磨体装填量以及掌握影响磨机粉磨效率的各项因素、筒体受力情况与强度计算等,都必须对研磨体在磨机内的技术 球磨机工作原理及研磨体运动分析_物料
了解更多2019年4月2日 平面研磨运动轨迹可分为手工研磨的运动轨迹和机械研磨的运动轨迹两种。其中,手工研磨的运动轨迹包括:直线往复式、摆动直线式、螺旋式及“8”字形式等几种形式;机械研磨的运动轨迹包括:外摆线式、内摆线式、直线往复式、正弦曲线式及无规则圆环线(螺旋形)式等几种形式。基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的研 抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及 ...基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 - 百度文库
了解更多2013年3月21日 Yan Wen, Huang Yumei, Gao Feng, Mu Weiyi. The Simulation and Machining Experiment of the Double-side Flat-lapping Method of Displacement-rotation[J]. Mechanical Science and Technology for Aerospace Engineering, 2014, 33(10): 1500-15042021年9月3日 平面研磨运动轨迹可分为手工研磨的运动轨迹和机械研磨的运动轨迹两种。其中,手工研磨的运动轨迹包括:直线往复式、摆动直线式、螺旋式及“8”字形式等几种形式;机械研磨的运动轨迹包括:外摆线式、内摆线式、直线往复式、正弦曲线式及无规则圆环线(螺旋形)式等几种形式。平面研磨运动轨迹 - 机床商务网
了解更多2018年6月1日 摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹 重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型ꎬ通过Matlab进行了运动学仿真ꎬ对两种 ...行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假想系杆的两相绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类型。行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 百度文库
了解更多行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假想系杆的两相绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类型。2017年8月5日 第38卷第6期 机械工程学报 v。1.38 No6 基于行星式平面研磨机研抛过程的 运动几何学分析 吴宏基曹利新刘健 (大连理工大学机械工程学院大连116024) 摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在 定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动 ...基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析.PDF ...
了解更多摘要: 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及两者的关系,以切削速度,切痕方向角,切痕方向角对时间的变化率为纽带,将研磨抛光的几何 ...2014年1月2日 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘、研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及两者的关系,以切削速度、切痕方向角、切痕方向角对时间的变化率为纽带,将研磨抛光的 ...基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析
了解更多基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的研 抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及 ...2012年8月8日 保证工具盘均匀磨损。两个方面都与研磨抛光质量关系密切。本文从磨粒相对工件的运动轨迹角度,对平面研磨 抛光轨迹研究进行综述,叙述了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,重点阐述了单面、双面平面研磨抛光轨迹,其中单面研磨抛光 ...平面研磨抛光轨迹研究.pdf - 豆丁网
了解更多根据已有研究,平面研磨轨迹主要有4种[1]:1)直线式研磨运动轨迹。主要是用于台阶等狭长工件平面的研磨,可获得较高的几何精度。2)摆动式直线研磨运动轨迹。可以获得较好的稳定性与平直度。3)螺旋形研磨运动轨迹。2021年8月19日 游离磨粒研磨加工是目前最常见的平面研磨加 工方式,主要由磨粒通过与工件之间的相对运动及 压力的作用下,对工件进行二体和三体摩损,从而 实现材料的微量去除[6]。 工件和研磨盘的转速比和偏心距是影响平面研 磨运动轨迹线和材料去除均匀性主要参数。232-241 2019-1456 肖燏婷 - cmes
了解更多2012年12月15日 1基于MATLAB平磨工件表面三维模型仿真方法杜海军芮延年王锐查炎(江苏.苏州大学215021dolphin010@126)摘要:本文首先通过对平面磨削工艺过程中运动轨迹的分析研究,求解了磨粒的切削轨迹。4) “8 ” 字形研磨 运动轨迹。适用于小平面工件的研磨和平板类工件的修 整, 能使相互研磨的平面介质均匀接触 , 并使研具均匀地 磨损。 1. 1 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构 , 如图 1 所示, , 被加工件放在行星轮孔内行星式双平面多工件研磨盘设计_边培莹 - 百度文库
了解更多