磷酸盐研磨机械工作原理 其缺点是研磨过程的随机性、较高的掺杂量和较大的。 效应的振动磨的结构和工作原理,并从能量利用的角度。2006年10月18日 CMP 的基本原理是将圆晶体片在研磨浆 (如含有 胶体SiO 2 悬浮颗粒的KOH 溶液) 的存在下相对于一 个抛光垫旋转, 并施加一定的压力, 借助机械磨削及化学机械抛光(CMP) 技术的发展、应用及存在问题
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